В России разрабатывается уникальное оборудование литографии на 1-3 нанометра

▪️Использование редкоземельных гадолиния и тербия в газообразном состоянии позволяет получить луч в рентгеновском диапазоне с длиной волны 6,7 нм. Над новой технологией работают физики из Центра Келдыша и ТРИНИТИ

▪️Нидерландская компания ASML сегодня выпускает оборудование по производству чипов, использующее излучение с длиной волны 13,5 нм. Переход в рентгеновский диапазон позволит реализовать литографию на уровне 1-3 нм

▪️Отечественная технология, не имеющая зарубежных аналогов, позволяет генерировать излучение рентгеновского диапазона в буферном газе — аргоне или гелии

▪️Переход в диапазон излучения 6,7 нм становится возможным благодаря новым многослойным зеркалам из лантана и бора, коэффициент отражения которых достигает 80%

▪️Новый подход позволит перескочить через несколько технологических поколений, создав литограф, способный производить чипы топологического уровня, недостижимого на классическом ультрафиолете

«КРИСТАЛЛ РОСТА» ранее приводил мнение Александра Галушки о том, что «Технологии являются центральной характеристикой экономического развития»