Первый серийный российский литограф для производства микросхем по технологии 350 нм планируют передать заказчику уже в декабре 2026 года. Такое оборудование необходимо для нанесения микроскопических элементов будущих чипов на кремниевые пластины.

Установка рассчитана на производство силовой и автомобильной электроники, а также компонентов для промышленного оборудования. Она способна обрабатывать до 63 кремниевых пластин диаметром 150 мм или до 43 пластин диаметром 200 мм в час.

Следующим этапом станет создание более точного российского литографа для выпуска 130 нм микросхем. Начать серийные поставки таких установок планируется уже в 2027 году.

@blackponed